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BMF nanoArch S140 10μm 列印機

BMF nanoArch S140 10μm 列印機

✦ 超高精度：光學精度高達 10μm
✦ 低層厚：10 ~ 40 μm的列印層厚
✦ 超高精度，大幅面，宏微一體化加工
✦ 適合新材料開發
✦ 支援列印奈米顆粒摻雜的功能性複合材料
✦ 光學監控系統，自動對焦​​功能
✦ 配套功能強大的列印軟體、切片軟體
✦ 製程參數可調。

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