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✦複合超高精度:光學精度10μm和25μm,智慧辨識特徵細節,自動切換層間及層內精度
✦雷射測距系統:便於列印平台與離型膜平整
✦高精準運動控制系統:XY運動軸的重複定位精度± 1μm
✦光學平台:提高系統穩定性和列印品質;
✦自動水平調節系統:平台自動調平、膜面自動調平、滾刀自動調節三大系統,全面提升列印效率
✦側移式繃膜框:更換平台無需拆卸繃膜框, 列印前無需反復調節繃膜水平;
✦分離式磁吸平台: 一分鐘快速裝拆,節省作業切換時間,使用者體驗更友好
✦供液系統:自動調節液槽內樹脂量(適用樹脂黏度<500 cPs),實現精準給量;
✦流平參數自動化:自動設定流平時間以及滾刀運作頻率
✦液槽加
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BMF microArch D1025 是 BMF 最新推出的專業級超高精密 3D 列印機,採用專利的 Projection Micro Stereolithography (PµSL) 技術。D1025 提供 10 微米和 25 微米 的雙分辨率選擇,可自動切換或在同一構建中混合使用,是精密製造領域的新一代解決方案。
相比上一代 D0210,D1025 具有 更輕的重量(500kg vs 900kg)、更低的功耗、更大的構建高度(75mm vs 50mm),以及 改進的 DLP 投影系統。
microArch D1025 是 BMF 首款支援 雙分辨率自動切換 的 3D 列印機,可以在 10 微米和 25 微米之間自動切換,甚至可以在同一個構建中混合使用兩種精度。
microArch D1025 列印的零件具有 卓越的表面質量,表面粗糙度極低,通常無需後處理即可直接使用。
microArch D1025 採用 改進的 DLP 投影系統,提供 更大的投影區域 和 更快的列印速度。
microArch D1025 配備 自動校準系統 和 激光測距技術,確保每次列印的精度和一致性。
microArch D1025 提供三種構建模式,滿足不同的應用需求,並且構建高度達到 75mm(相比 D0210 的 50mm):
microArch D1025 相比上一代 D0210 有以下改進:
microArch D1025 支援多種高性能光敏樹脂和陶瓷漿料材料,包括:
| 規格項目 | 參數 |
|---|---|
| 光源 | UV LED (405nm) |
| 光學精度 | 10μm & 25μm(可自動切換) |
| 層厚 | 10-50μm |
| 構建尺寸(模式 1 - 10μm) | 27.16mm(L) × 16mm(W) × 75mm(H) |
| 構建尺寸(模式 1 - 25μm) | 67.9mm(L) × 40mm(W) × 75mm(H) |
| 構建尺寸(模式 2&3) | 100mm(L) × 100mm(W) × 75mm(H) |
| 外形尺寸 | 1350mm(L) × 900mm(W) × 1950mm(H) |
| 總重量 | 500kg |
| 電源 | 220-240V / 單相 / 50-60Hz |
| 列印文件格式 | STL |
| 列印材料 | 光敏樹脂、陶瓷漿料 |
microArch D1025 的雙分辨率技術使其成為複雜醫療設備製造的理想選擇。可以列印:
microArch D1025 可以列印複雜的微流體結構,包括:
microArch D1025 的 25 微米精度模式適合高效率的工業級零件製造:
microArch D1025 的超高精度和卓越表面質量使其成為珠寶和牙科應用的理想選擇。
| 功能 | D0210 | D1025 |
|---|---|---|
| 精度 | 2μm & 10μm | 10μm & 25μm |
| 精度切換 | ✓ 支援 | ✓ 支援(改進版) |
| 混合精度構建 | ✗ 不支援 | ✓ 支援 |
| 構建高度 | 50mm | 75mm |
| 10μm 投影區域 | 27.16×16mm | 27.16×16mm |
| 25μm 投影區域 | N/A | 67.9×40mm |
| 重量 | 900kg | 500kg |
| 功耗 | 較高 | 更低 |
| 適用場景 | 超精密應用 | 複雜醫療設備、高效率生產 |
如果您正在尋找新一代的雙分辨率超高精密 3D 列印解決方案,BMF microArch D1025 是您的最佳選擇。立即聯繫 QTS品測科技,了解更多詳情。





