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BMF microArch S350 是工業級高效率 3D 列印機,採用 Projection Micro Stereolithography (PµSL) 技術。光學精度達 25 微米,最大構建空間 100mm(L)×100mm(W)×50mm(H)。層厚 10-50μm,支援光敏樹脂。三種構建模式、自動化工作流程、高效率生產。適合精密連接器、微流控芯片、太赫茲超器件、複雜管道結構件、大批量生產。相比微米級機型,S350 提供最高的生產效率和最經濟的成本。
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BMF microArch S350 是工業級高效率 3D 列印機,採用專利的 Projection Micro Stereolithography (PµSL) 技術。S350 提供 25 微米 的精度,並支援 光敏樹脂,是專為精密連接器、微流控芯片、太赫茲超器件和複雜管道結構件設計的工業級解決方案。
microArch S350 配備 超大幅面構建空間(100×100×50mm)、三種構建模式 和 自動化工作流程,確保高效率的生產和一致的品質。
microArch S350 提供 100mm(L) × 100mm(W) × 50mm(H) 的超大幅面構建空間,相比微米級機型(如 S230A 的 50×50×50mm)提供 4 倍的面積。這使得可以:
microArch S350 的 25 微米精度對大多數工業應用已經足夠,例如:
相比 10 微米或 2 微米的機型,S350 提供更高的列印速度和生產效率,特別適合大批量生產。
microArch S350 提供三種構建模式,滿足不同的應用需求:
microArch S350 支援 10-50μm 的層厚範圍,可根據應用需求選擇最佳層厚,實現精度和效率的平衡。
microArch S350 採用人性化設計,包括:
microArch S350 採用 UV LED 光源(405nm),具有:
microArch S350 配備自動化工作流程,包括:
microArch S350 採用完善的安全設計:
microArch S350 提供最經濟的成本效益:
| 規格項目 | 參數 |
|---|---|
| 光源 | UV-LED (405nm) |
| 光學精度 | 25μm |
| 層厚 | 10-50μm |
| 構建尺寸(模式 1) | 67.9mm(L) × 38.2mm(W) × 50mm(H) |
| 構建尺寸(模式 2) | 100mm(L) × 100mm(W) × 50mm(H) |
| 構建尺寸(模式 3) | 100mm(L) × 100mm(W) × 50mm(H) |
| 外形尺寸 | 1350mm(L) × 850mm(W) × 1950mm(H) |
| 總重量 | 660kg |
| 電源 | 220-240V / 50-60Hz / 2kW |
| 列印文件格式 | STL |
| 列印材料 | 光敏樹脂 |
microArch S350 可以列印各種精密連接器:
microArch S350 可以列印複雜的微流控芯片:
microArch S350 可以列印太赫茲超器件:
microArch S350 可以列印複雜的管道結構:
microArarch S350 特別適合大批量生產:
microArch S350 廣泛應用於科研機構和大學,用於:
| 功能 | microArch S350 | microArch S240A | microArch S230A | microArch S140 | microArch D1025 |
|---|---|---|---|---|---|
| 精度 | 25μm | 10μm | 2μm | 10μm | 10/25μm |
| 構建高度 | 50mm | 75mm | 50mm | 45mm | 75mm |
| 最大構建尺寸 | 100×100×50mm | 100×100×75mm | 50×50×50mm | 94×52×45mm | 100×100×75mm |
| 支援材料 | 光敏樹脂 | 光敏樹脂、陶瓷漿料 | 光敏樹脂 | 光敏樹脂、奈米複合材料 | 光敏樹脂、陶瓷漿料 |
| 層厚範圍 | 10-50μm | 10-40μm | 5-20μm | 10-40μm | 10-50μm |
| 機器重量 | 660kg | 300kg | 660kg | 未知 | 未知 |
| 應用領域 | 工業級大批量生產 | 陶瓷製造、超材料 | 生物醫療芯片 | 新材料開發、仿生應用 | 精密電子、醫療設備 |
| 適用場景 | 連接器、微流控、太赫茲、大批量 | 陶瓷研究、大幅面結構 | 生物醫療應用 | 新材料研究、仿生設計 | 精密電子、醫療應用 |
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