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BMF nanoArch S130 是專業級超高精密 3D 列印機,專為微納級應用設計。採用 Projection Micro Stereolithography (PµSL) 技術,光學精度達 2 微米(業界最高)。支援 UV LED 光源,層厚 5-20μm,最大構建空間 50mm(L)×50mm(W)×10mm(H)。配備氣浮平台、自動對焦系統、光學監控系統。適合微機械、微流體芯片、精密光學元件、生物醫療微器械。
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BMF nanoArch S130 是專業級超高精密 3D 列印機,採用專利的 Projection Micro Stereolithography (PµSL) 技術。S130 提供 2 微米 的超高精度,是業界最高的精度標準,專為微納級應用設計。
nanoArch S130 配備 氣浮平台、自動對焦系統 和 光學監控系統,確保每次列印的精度和一致性。
nanoArch S130 提供 2 微米 的光學精度,是業界最高的精度標準。這意味著可以列印出極其細微的結構,例如:
nanoArch S130 支援 5-20μm 的超低層厚,可根據應用需求選擇最佳層厚,實現最高的精度和表面質量。
nanoArch S130 配備 氣浮平台,使用壓縮空氣在平台下方形成氣墊,減少摩擦和震動,提升列印品質和精度。
nanoArch S130 配備 自動對焦系統,可自動檢測和調整焦點,確保每層列印的精度一致性。
nanoArch S130 配備 光學監控系統,可實時監測列印過程,確保列印品質。
nanoArch S130 採用 UV LED 光源,具有優良的光源穩定性和長壽命,保證列印結果的一致性。
nanoArch S130 提供三種構建模式,滿足不同的應用需求:
nanoArch S130 配套功能強大的列印軟體和切片軟體,支援複雜的設計和優化。
| 規格項目 | 參數 |
|---|---|
| 光源 | UV LED (405nm) |
| 光學精度 | 2μm |
| 層厚 | 5-20μm |
| 構建尺寸(模式 1) | 3.84mm(L) × 2.16mm(W) × 10mm(H) |
| 構建尺寸(模式 2) | 38.4mm(L) × 21.6mm(W) × 10mm(H) |
| 構建尺寸(模式 3) | 50mm(L) × 50mm(W) × 10mm(H) |
| 外形尺寸 | 1720mm(L) × 750mm(W) × 1820mm(H) |
| 總重量 | 660kg |
| 電源 | 220-240V / 50-60Hz / 2kW |
| 列印文件格式 | STL |
| 列印材料 | 光敏樹脂 |
nanoArch S130 的 2 微米精度使其成為微機械製造的理想選擇。可以列印:
nanoArch S130 可以列印複雜的微流體結構,包括:
nanoArch S130 的超高精度使其成為精密光學應用的理想選擇:
nanoArch S130 可以列印生物醫療微器械,包括:
nanoArch S130 廣泛應用於科研機構和大學,用於:
| 功能 | nanoArch S130 | microArch D0210 | microArch D1025 |
|---|---|---|---|
| 精度 | 2μm | 2μm & 10μm | 10μm & 25μm |
| 應用領域 | 微納級應用 | 超精密應用 | 複雜醫療設備 |
| 構建高度 | 10mm | 50mm | 75mm |
| 最大構建尺寸 | 50×50×10mm | 100×100×50mm | 100×100×75mm |
| 層厚範圍 | 5-20μm | 5-40μm | 10-50μm |
| 特殊功能 | 氣浮平台、自動對焦 | 自動精度切換 | 雙分辨率混合 |
| 重量 | 660kg | 900kg | 500kg |
| 適用場景 | 微機械、微流體、光學 | 精密連接器、醫療設備 | 複雜醫療設備、高效率 |
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