Name: BMF nanoArch® S140 10μm 列印機｜高精度｜大幅面｜新材料開發｜QTS
SKU: 67f6240e85f08300112556d0
Availability: OutOfStock

BMF nanoArch® S140 10μm 列印機｜高精度｜大幅面｜新材料開發｜QTS

BMF nanoArch S140 是專業級高精密 3D 列印機，採用 Projection Micro Stereolithography (PµSL) 技術。光學精度達 10 微米，最大構建空間 94mm(L)×52mm(W)×45mm(H)（相比 S130 增加 9 倍面積）。層厚 10-40μm，支援光敏樹脂和奈米顆粒摻雜的功能性複合材料。三種構建模式、自動對焦系統、光學監控系統。適合新材料開發、仿生應用、針孔複眼、微針陣列、複雜結構支架。

{{shoplineProductReview.avg_score}} {{'product.product_review.stars' | translate}} | {{shoplineProductReview.total}} {{'product.product_review.reviews' | translate}}

{{amazonProductReview.avg_rating}} {{'product.product_review.stars' | translate}} | {{amazonProductReview.total_comment_count}} {{'product.product_review.reviews' | translate}}

一次最大商品購買數量限制為 99999

該數量不適用，請填入有效的數量。

售完

若想購買，請聯絡我們。

商品描述

送貨及付款方式

顧客評價

商品描述

BMF nanoArch® S140 10μm 列印機 — 大幅面高精度微納級 3D 列印和新材料開發解決方案

BMF nanoArch S140 是專業級高精密 3D 列印機，採用專利的 Projection Micro Stereolithography (PµSL) 技術。S140 提供 10 微米 的高精度，並支援 奈米顆粒摻雜的功能性複合材料，是專為新材料開發和仿生應用設計的升級版本。

nanoArch S140 配備 超大幅面構建空間（94×52×45mm）、自動對焦系統 和 光學監控系統，確保每次列印的精度和一致性。

nanoArch S140 的核心優勢

1. 【高精度與大幅面的完美結合】— 10 微米精度 + 94×52×45mm 構建空間

nanoArch S140 提供 10 微米 的光學精度，同時提供 94mm(L) × 52mm(W) × 45mm(H) 的超大幅面構建空間，相比 nanoArch S130 的 50×50×10mm 增加了 9 倍的面積。這使得可以列印更大、更複雜的結構，例如：

針孔複眼： 5×5×2.5mm³，半球外殼半徑 10mm，具有薄壁、密集微孔隙特徵的半球形光電傳感器基底陣列結構
多功能凝膠傳感器： 複雜的多功能傳感器結構
雙梯度表面微針陣列： 複雜的微針陣列結構
三週期極小曲面結構支架： 複雜的生物支架結構

2. 【支援新材料開發】— 奈米顆粒摻雜功能性複合材料

nanoArch S140 支援 奈米顆粒摻雜的功能性複合材料，使得可以開發具有特殊功能的新材料，例如：

導電複合材料： 摻雜導電奈米顆粒的樹脂
磁性複合材料： 摻雜磁性奈米顆粒的樹脂
光學功能材料： 摻雜光學奈米顆粒的樹脂
生物功能材料： 摻雜生物活性奈米顆粒的樹脂

3. 【層厚範圍廣泛】— 10-40μm 層厚選擇

nanoArch S140 支援 10-40μm 的層厚範圍，相比 S130 的 5-20μm 更加靈活。可根據應用需求選擇最佳層厚，實現精度和效率的平衡。

4. 【三種構建模式】— 靈活的生產方案

nanoArch S140 提供三種構建模式，滿足不同的應用需求：

模式 1 - 單投影模式： 19.2mm(L) × 10.8mm(W) × 45mm(H)（最高精度）
模式 2 - 拼接模式： 94mm(L) × 52mm(W) × 45mm(H)（通過拼接多個投影區域）
模式 3 - 重複陣列模式： 94mm(L) × 52mm(W) × 45mm(H)（列印多個相同零件）

5. 【自動對焦系統】— 確保精度一致性

nanoArch S140 配備 自動對焦系統，可自動檢測和調整焦點，確保每層列印的精度一致性。

6. 【光學監控系統】— 實時監測列印過程

nanoArch S140 配備 光學監控系統，可實時監測列印過程，確保列印品質。

7. 【優良的光源穩定性】— 保證列印結果一致

nanoArch S140 採用 UV LED 光源，具有優良的光源穩定性和長壽命，保證列印結果的一致性。

8. 【製程參數可調】— 適應多種應用需求

nanoArch S140 的製程參數完全可調，可根據不同的材料和應用需求進行優化，適應多種應用場景。

9. 【功能強大的軟體】— 專業級切片和列印軟體

nanoArch S140 配套功能強大的列印軟體和切片軟體，支援複雜的設計和優化。

nanoArch S140 的技術規格

規格項目	參數
光源	UV-LED (405nm)
光學精度	10μm
層厚	10-40μm
構建尺寸（模式 1）	19.2mm(L) × 10.8mm(W) × 45mm(H)
構建尺寸（模式 2）	94mm(L) × 52mm(W) × 45mm(H)
構建尺寸（模式 3）	94mm(L) × 52mm(W) × 45mm(H)
外形尺寸	650mm(L) × 650mm(W) × 750mm(H)
總重量	245kg
電源	220-240V / 50-60Hz / 2kW
列印文件格式	STL
列印材料	光敏樹脂、奈米顆粒摻雜功能性複合材料

nanoArch S140 的應用領域

仿生應用

nanoArch S140 的高精度和大幅面使其成為仿生應用的理想選擇，可以列印：

針孔複眼： 仿生複眼結構，用於光電傳感
仿生微結構： 各種仿生微結構和表面
仿生材料： 具有仿生功能的複合材料

新材料開發

nanoArch S140 支援奈米顆粒摻雜材料，是新材料開發的理想平台：

導電複合材料： 用於電子、傳感器應用
磁性複合材料： 用於磁性應用
光學功能材料： 用於光學應用
生物功能材料： 用於生物醫療應用

微針陣列應用

nanoArch S140 可以列印複雜的微針陣列結構：

藥物遞送微針： 用於經皮給藥
生物傳感微針： 用於生物檢測
雙梯度表面微針： 具有複雜表面特徵的微針

生物支架應用

nanoArch S140 可以列印複雜的生物支架結構：

組織工程支架： 用於組織再生和修復
極小曲面結構支架： 具有複雜曲面的支架
多孔支架： 具有特定孔隙結構的支架

傳感器應用

nanoArch S140 可以列印各種傳感器結構：

多功能凝膠傳感器： 具有多種感應功能的傳感器
光電傳感器： 用於光學檢測
化學傳感器： 用於化學檢測

科研和學術應用

nanoArch S140 廣泛應用於科研機構和大學，用於：

新材料研究： 奈米複合材料、功能性材料研究
仿生設計研究： 仿生微結構設計和製造研究
微流體研究： 微流體設計和製造研究
原型開發： 新型傳感器、生物醫療設備原型開發

nanoArch S140 vs nanoArch S130 — 性能對比

功能	nanoArch S140	nanoArch S130
精度	10μm	2μm
構建高度	45mm	10mm
最大構建尺寸	94×52×45mm	50×50×10mm
構建面積	4,888 mm²	2,500 mm²（單投影模式）
支援材料	光敏樹脂、奈米顆粒摻雜複合材料	光敏樹脂
層厚範圍	10-40μm	5-20μm
機器重量	245kg	660kg
應用領域	新材料開發、仿生應用、大幅面結構	微機械、微流體、精密光學
適用場景	材料研究、仿生設計、大尺寸微結構	科研應用、微納級結構

為什麼選擇 QTS品測科技？

台灣官方授權代理商： BMF 在台灣的官方授權代理商，擁有最新的產品資訊和優先的配件供應
完整的本地化支援： 中文技術文檔、本地技術顧問團隊、快速的維修和維護服務
專業培訓和諮詢： 提供專業的設備培訓和應用諮詢
靈活的購買方案： 完整系統購買、分期付款方案、租賃方案（適合試用）
長期的合作夥伴： 投入於您的成功，提供持續的支援和改進建議

如果您正在尋找大幅面高精度微納級 3D 列印和新材料開發解決方案，BMF nanoArch S140 是您的最佳選擇。立即聯繫 QTS品測科技，了解更多詳情。